SONOSYS兆聲波清洗機(jī)3MHz

設(shè)備依托高頻聲波空化與微射流效應(yīng)，區(qū)別于傳統(tǒng)低頻超聲波清洗，支持 400kHz?9MHz 寬頻率區(qū)間選擇，可剝離低至百納米級(jí)微小顆粒污染物，高頻模式下空化氣泡微小柔和，在強(qiáng)力去污的同時(shí)保護(hù)微納精細(xì)結(jié)構(gòu)，避免工件圖案、薄壁器件發(fā)生損傷，大幅提升產(chǎn)品良品率。產(chǎn)品包含兆聲波發(fā)生器、單 / 雙 / 三噴嘴、浸入式換能器等多種配置，噴嘴式實(shí)現(xiàn)無接觸定點(diǎn)清洗，能量集中于 2?4mm 區(qū)域；槽式換能器適

產(chǎn)品型號(hào)：13407-059
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2026-08-06
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產(chǎn)品詳情

品牌	新加坡SONOSYS	產(chǎn)地	進(jìn)口

# SONOSYS超聲波（兆聲波）清洗機(jī)SONOSYS是德國專注高頻兆聲波精密清洗品牌，深耕微納清洗技術(shù)多年，全套設(shè)備從發(fā)生器、壓電換能器到整套系統(tǒng)均為自主研發(fā)生產(chǎn)，嚴(yán)格遵循德國工業(yè)制造標(biāo)準(zhǔn)，面向半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電、光學(xué)、醫(yī)療器件及科研領(lǐng)域，提供納米級(jí)無損精密清洗解決方案。區(qū)別于普通低頻超聲波清洗設(shè)備，SONOSYS兆聲波系統(tǒng)工作頻率覆蓋400kHz?9MHz區(qū)間，依靠高頻空化效應(yīng)與液體微射流完成清洗。高頻工況下生成的空化氣泡尺寸微小柔和，既能高效剝離百納米級(jí)微細(xì)顆粒污染物，又可以有效避免微結(jié)構(gòu)、光刻圖形、薄壁器件發(fā)生沖擊損傷，大幅提升精密工件的良品率，解決傳統(tǒng)超聲容易造成器件崩邊、圖案破壞的行業(yè)痛點(diǎn)。整套系統(tǒng)主要包含數(shù)字兆聲波發(fā)生器、噴嘴式清洗單元、浸入式換能器三大核心部件。噴嘴系列分為單噴嘴、雙噴嘴與三噴嘴，兆聲波能量集中在2?4mm狹小區(qū)域，實(shí)現(xiàn)無接觸定點(diǎn)清洗；雙/三噴嘴支持多頻率同步組合輸出，可同時(shí)處理不同粒徑污染物，適配單片晶圓、掩膜版定點(diǎn)清洗工藝。浸入式換能器可直接加裝于現(xiàn)有清洗槽內(nèi)部，無需改造槽體，便于產(chǎn)線升級(jí)改造，適合多工件批量浸泡清洗。數(shù)字發(fā)生器支持10%?100%功率連續(xù)可調(diào)，搭載自動(dòng)調(diào)諧功能，通過Modbus通訊協(xié)議可對(duì)接PLC控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程參數(shù)設(shè)置、運(yùn)行狀態(tài)監(jiān)控與故障診斷，能夠無縫集成至自動(dòng)化濕法工藝產(chǎn)線。接觸藥液部件采用石英玻璃、PTFE、FFKM等耐腐蝕材質(zhì)，兼容去離子水及各類酸堿清洗藥液，滿足工業(yè)長時(shí)間連續(xù)運(yùn)行工況。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓、光刻掩膜版、MEMS微器件、光學(xué)鏡片、傳感器芯片、生物微流控芯片、精密醫(yī)療零部件清洗，同時(shí)適配高校與科研機(jī)構(gòu)微納樣品前處理實(shí)驗(yàn)。設(shè)備化學(xué)藥劑消耗量低，工藝可復(fù)現(xiàn)性強(qiáng)，還可根據(jù)工件尺寸、污染物類型、產(chǎn)線工況進(jìn)行頻率、功率、硬件結(jié)構(gòu)的定制開發(fā)。憑借穩(wěn)定可靠的性能，SONOSYS兆聲波清洗設(shè)備成為微納制造行業(yè)納米顆粒去除的主流選型設(shè)備。

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